CIF-Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態(tài)滴膠方式是在基片低速（通常在500轉/分左右）旋轉的同時進行滴膠，“動態(tài)"的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開，減少光刻膠的浪費，采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕（鋪展覆蓋）整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下，動態(tài)滴膠尤其適用，不會產(chǎn)生針孔。
滴膠之后，下一步是高速旋轉。使光刻膠層變薄達到要求的膜厚，這個階段的轉速一般在1500-6000轉/分，轉速的選定同樣要看光刻膠的性能（包括粘度，溶劑揮發(fā)速度，固體含量以及表面張力等）以及基片的大小?？焖傩D的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉速以及勻膠時間往往能決定膠膜的厚度。
一般來說，勻膠轉速快，時間長，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多，這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以建議給予勻膠過程以足夠的時間，讓諸多影響因素達到平衡。
Spin Coater勻膠機產(chǎn)品特點：
1.采用閉環(huán)控制伺服電機，數(shù)字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻。
2.5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置)，可選配10個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，多100個階段。
3.內(nèi)置水平校準裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。
4、多重安全保護
電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實驗人員安全。
5.一機兩用，根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
6.不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
7.勻膠機適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。
產(chǎn)品型號：CIF Spin Coater
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郵箱：cif_lab@163.com
傳真：86-010-63752028